將元素(su)的(de)(de)(de)原子(zi)離(li)子(zi)化并在電場(chang)中獲得高能量后，強行(xing)注入金(jin)屬材料表層，以形成極薄的(de)(de)(de)近表面合金(jin)層，從而改變金(jin)屬表面的(de)(de)(de)物理(li)或化學性質。離(li)子(zi)注入系統的(de)(de)(de)原理(li)示意見圖3-19。

  將選定元素的(de)原(yuan)子(zi)（He、N、B、Al、Ti、Cr、Ni、Co、Mo等(deng)）在(zai)離(li)子(zi)源處(chu)電(dian)離(li)成離(li)子(zi)，然后將離(li)子(zi)在(zai)高壓(ya)電(dian)場（10～500kV）加速(su)，依E=qV的(de)規律獲(huo)得(de)高的(de)動(dong)能（q為離(li)子(zi)電(dian)荷），并

  用橫向磁場把不同質量的離子偏轉不同的角度，選出特定能量和特定質量的離子，通過掃描系統注入金屬靶材料表面。整個過程在1.3×10^-3Pa的真空下進行。

  離子注人深度一般(ban)在1μm以下，在此(ci)近表面層中(zhong)注入的金屬以高過飽和固(gu)溶(rong)體(ti)、亞穩相、非晶態組織和平衡合金等不同(tong)的結構形式存在。離子注入金屬后可改善其耐磨性、耐蝕性和抗疲勞能(neng)力(li)。

  離(li)(li)子(zi)(zi)注(zhu)入原則上可(ke)以(yi)任(ren)意(yi)選擇注(zhu)入元素(su)，不(bu)受冶金(jin)學限制，它在高真空及低溫下進行(xing)，不(bu)會引起(qi)模具畸變，不(bu)影響(xiang)表面(mian)粗糙度(du)，可(ke)精(jing)確控制注(zhu)入離(li)(li)子(zi)(zi)的(de)(de)濃度(du)、濃度(du)分布(bu)和注(zhu)入深度(du)。目前(qian)，離(li)(li)子(zi)(zi)注(zhu)入技(ji)術不(bu)斷(duan)發展并日趨成熟，離(li)(li)子(zi)(zi)設備不(bu)斷(duan)完(wan)善。離(li)(li)子(zi)(zi)注(zhu)入不(bu)銹(xiu)鋼零件進行(xing)表面(mian)改(gai)性已(yi)獲得越來越多的(de)(de)應用(yong)。