金(jin)屬及(ji)其合金(jin)的(de)(de)應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)腐蝕(shi)開(kai)(kai)裂(lie)(lie)已(yi)被廣泛研(yan)究(jiu)(jiu)(jiu),研(yan)究(jiu)(jiu)(jiu)應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)腐蝕(shi)的(de)(de)最基本(ben)問題是(shi)探(tan)索裂(lie)(lie)紋(wen)起源、擴(kuo)(kuo)展(zhan)的(de)(de)原因和(he)過程(cheng)。目(mu)前,已(yi)經在研(yan)究(jiu)(jiu)(jiu)裂(lie)(lie)紋(wen)尖端化學(xue)和(he)電(dian)化學(xue)狀(zhuang)態、應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)強度與裂(lie)(lie)紋(wen)擴(kuo)(kuo)展(zhan)速(su)率的(de)(de)關(guan)(guan)系、氫(qing)在裂(lie)(lie)紋(wen)擴(kuo)(kuo)展(zhan)中的(de)(de)地位(wei)、應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)和(he)應(ying)(ying)(ying)變速(su)率的(de)(de)作用等(deng)方(fang)面(mian)取得(de)了(le)很大進展(zhan)。已(yi)經提出的(de)(de)應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)腐蝕(shi)開(kai)(kai)裂(lie)(lie)機理(li)(li)(li)有陽(yang)極溶解型機理(li)(li)(li)和(he)氫(qing)致(zhi)開(kai)(kai)裂(lie)(lie)型機理(li)(li)(li)兩大類。在這兩類機理(li)(li)(li)的(de)(de)基礎上(shang)又發展(zhan)了(le)表面(mian)膜破裂(lie)(lie)理(li)(li)(li)論(lun)(lun)、活性通(tong)道(dao)理(li)(li)(li)論(lun)(lun)、應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)吸(xi)附開(kai)(kai)裂(lie)(lie)理(li)(li)(li)論(lun)(lun)、腐蝕(shi)產物楔人(ren)理(li)(li)(li)論(lun)(lun)、閉塞電(dian)池理(li)(li)(li)論(lun)(lun)、以機械開(kai)(kai)裂(lie)(lie)為主的(de)(de)兩段論(lun)(lun)及(ji)開(kai)(kai)裂(lie)(lie)三(san)階(jie)段理(li)(li)(li)論(lun)(lun)等(deng)。應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)腐蝕(shi)是(shi)一(yi)(yi)個非常復雜的(de)(de)問題,裂(lie)(lie)紋(wen)只是(shi)其形式的(de)(de)一(yi)(yi)種,造成裂(lie)(lie)紋(wen)的(de)(de)原因和(he)裂(lie)(lie)紋(wen)進展(zhan)過程(cheng)在不同(tong)條件下(xia)也不同(tong),所以很多時候(hou)不能只用一(yi)(yi)種理(li)(li)(li)論(lun)(lun)來解釋。以下(xia)將簡(jian)要介紹(shao)應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)腐蝕(shi)的(de)(de)相關(guan)(guan)機理(li)(li)(li)。


一、陽極溶解機理


  陽(yang)極(ji)(ji)溶(rong)(rong)解(jie)理(li)(li)(li)論是(shi)由(you)(you)(you)T.P.Hoar和 J.G.Hines提出的(de)(de)(de)(de)。本理(li)(li)(li)論認(ren)為,在應(ying)力(li)和腐(fu)蝕(shi)的(de)(de)(de)(de)聯(lian)合作用下,局部(bu)位置上產(chan)生了(le)(le)微裂(lie)(lie)紋(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)。這時金(jin)屬(shu)的(de)(de)(de)(de)整個表面(mian)是(shi)陰(yin)極(ji)(ji)區,裂(lie)(lie)紋(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)的(de)(de)(de)(de)側(ce)面(mian)和尖(jian)(jian)端(duan)組成了(le)(le)陽(yang)極(ji)(ji)區,產(chan)生了(le)(le)大陰(yin)極(ji)(ji)、小(xiao)陽(yang)極(ji)(ji)的(de)(de)(de)(de)電化(hua)(hua)學腐(fu)蝕(shi)。應(ying)力(li)腐(fu)蝕(shi)是(shi)由(you)(you)(you)裂(lie)(lie)紋(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)尖(jian)(jian)端(duan)的(de)(de)(de)(de)快速(su)陽(yang)極(ji)(ji)溶(rong)(rong)解(jie)所引(yin)起的(de)(de)(de)(de),裂(lie)(lie)紋(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)的(de)(de)(de)(de)側(ce)面(mian)由(you)(you)(you)于有(you)表面(mian)膜等,使(shi)得側(ce)面(mian)方向上的(de)(de)(de)(de)溶(rong)(rong)解(jie)受到了(le)(le)抑制(zhi),從(cong)而(er)比裂(lie)(lie)紋(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)尖(jian)(jian)端(duan)處(chu)的(de)(de)(de)(de)溶(rong)(rong)解(jie)速(su)率(lv)要小(xiao)得多(duo),這就保證裂(lie)(lie)紋(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)能(neng)像(xiang)剪刀似地向前(qian)擴展(zhan)。這種(zhong)理(li)(li)(li)論最(zui)適用于自鈍化(hua)(hua)金(jin)屬(shu)。由(you)(you)(you)于裂(lie)(lie)紋(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)兩側(ce)受到鈍化(hua)(hua)膜保護,更顯示出裂(lie)(lie)紋(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)尖(jian)(jian)端(duan)的(de)(de)(de)(de)快速(su)溶(rong)(rong)解(jie),隨著裂(lie)(lie)紋(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)向前(qian)推進,裂(lie)(lie)紋(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)兩側(ce)的(de)(de)(de)(de)金(jin)屬(shu)將重新發(fa)生鈍化(hua)(hua)(即(ji)再鈍化(hua)(hua)),因(yin)此(ci)這種(zhong)理(li)(li)(li)論與膜的(de)(de)(de)(de)再鈍化(hua)(hua)過程(cheng)有(you)密切(qie)聯(lian)系。如果再鈍化(hua)(hua)太快,就不會產(chan)生裂(lie)(lie)縫(feng)的(de)(de)(de)(de)進一步(bu)腐(fu)蝕(shi);如果再鈍化(hua)(hua)太慢,裂(lie)(lie)縫(feng)尖(jian)(jian)部(bu)將變圓而(er)形(xing)成活性較(jiao)低的(de)(de)(de)(de)蝕(shi)孔。只(zhi)有(you)當裂(lie)(lie)縫(feng)中(zhong)鈍化(hua)(hua)膜破裂(lie)(lie)和再鈍化(hua)(hua)過程(cheng)處(chu)于某種(zhong)同(tong)步(bu)條件下才能(neng)使(shi)裂(lie)(lie)紋(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)向縱深(shen)發(fa)展(zhan),可以(yi)設想有(you)一個使(shi)裂(lie)(lie)縫(feng)進展(zhan)狹(xia)小(xiao)的(de)(de)(de)(de)再鈍化(hua)(hua)時間的(de)(de)(de)(de)范(fan)圍。陽(yang)極(ji)(ji)溶(rong)(rong)解(jie)理(li)(li)(li)論是(shi)傳統的(de)(de)(de)(de)應(ying)力(li)腐(fu)蝕(shi)機理(li)(li)(li),關于它的(de)(de)(de)(de)研究比較(jiao)多(duo)。


二、氫致開裂機理


 近年來,應(ying)力腐蝕的(de)吸氫(qing)脆(cui)(cui)(cui)(cui)變理(li)論研究取得了較大的(de)進展(zhan)。該理(li)論認為,由于腐蝕的(de)陰(yin)極反應(ying)產生氫(qing),氫(qing)原子擴(kuo)(kuo)散(san)到(dao)裂(lie)(lie)縫尖端金屬內部,使這一區域變脆(cui)(cui)(cui)(cui),在(zai)(zai)拉(la)應(ying)力作用(yong)下脆(cui)(cui)(cui)(cui)斷。此理(li)論幾乎一致(zhi)的(de)意見是:在(zai)(zai)應(ying)力腐蝕破裂(lie)(lie)中(zhong),氫(qing)起(qi)了重(zhong)要的(de)作用(yong)。由于海洋結(jie)構(gou)用(yong)鋼在(zai)(zai)腐蝕很(hen)(hen)強的(de)海洋大氣環境中(zhong),在(zai)(zai)金屬表(biao)面容(rong)易發(fa)生陰(yin)極析氫(qing)反應(ying),造成氫(qing)在(zai)(zai)鋼鐵(tie)表(biao)面的(de)吸附及向內部的(de)擴(kuo)(kuo)散(san),使鋼鐵(tie)結(jie)構(gou)脆(cui)(cui)(cui)(cui)變;同時,在(zai)(zai)交變載荷作用(yong)下,鋼鐵(tie)結(jie)構(gou)很(hen)(hen)容(rong)易發(fa)生由氫(qing)脆(cui)(cui)(cui)(cui)造成的(de)斷裂(lie)(lie),危害(hai)巨大,氫(qing)致(zhi)開裂(lie)(lie)的(de)具(ju)體機理(li)將在(zai)(zai)以后(hou)重(zhong)點(dian)介(jie)紹。


三、表面膜破裂機理


 在(zai)腐蝕介(jie)質(zhi)中,金(jin)(jin)屬表(biao)面(mian)(mian)形成(cheng)具有保(bao)護能力(li)的表(biao)面(mian)(mian)膜(mo)(mo)(mo),此(ci)膜(mo)(mo)(mo)在(zai)應力(li)作用下(xia)(xia)引起破壞或減弱,結果暴(bao)露出新(xin)鮮表(biao)面(mian)(mian)。此(ci)新(xin)鮮表(biao)面(mian)(mian)在(zai)電(dian)解(jie)質(zhi)溶液中成(cheng)為陽極,它與陰(yin)極具有表(biao)面(mian)(mian)膜(mo)(mo)(mo)的金(jin)(jin)屬其余表(biao)面(mian)(mian)組成(cheng)一(yi)個大面(mian)(mian)積陰(yin)極和小面(mian)(mian)積陽極的腐蝕電(dian)池;陽極部(bu)位(wei)產(chan)生坑(keng)蝕,進而萌生裂(lie)紋(wen)。表(biao)面(mian)(mian)膜(mo)(mo)(mo)破裂(lie)是由(you)多種因素造成(cheng)的,如機(ji)械損傷。在(zai)應力(li)的作用下(xia)(xia)表(biao)面(mian)(mian)膜(mo)(mo)(mo)的破壞可(ke)以用滑移(yi)階梯來解(jie)釋(shi)。金(jin)(jin)屬在(zai)應力(li)的作用下(xia)(xia)產(chan)生塑性變(bian)形就(jiu)是金(jin)(jin)屬中的位(wei)錯沿滑移(yi)面(mian)(mian)的運(yun)動,結果在(zai)表(biao)面(mian)(mian)匯合處出現滑移(yi)階梯,如果表(biao)面(mian)(mian)的保(bao)護膜(mo)(mo)(mo)不能隨著(zhu)階梯發生相應的變(bian)化,表(biao)面(mian)(mian)膜(mo)(mo)(mo)就(jiu)要被破壞。


四、活性通道理(li)論


 活性(xing)通(tong)道(dao)(dao)理論是(shi)由迪克斯、米爾斯和(he)布朗等(deng)(deng)人最先提出的(de)(de)(de),他們認為,在(zai)發生應(ying)力腐(fu)(fu)蝕開裂(lie)的(de)(de)(de)金(jin)屬(shu)或(huo)合金(jin)中(zhong)存在(zai)著一條易(yi)于(yu)腐(fu)(fu)蝕、基本(ben)上是(shi)連續的(de)(de)(de)通(tong)道(dao)(dao),沿(yan)著這條活性(xing)通(tong)道(dao)(dao)優(you)先發生陽極溶解。活性(xing)通(tong)道(dao)(dao)可(ke)由以下(xia)一些(xie)不(bu)同的(de)(de)(de)原因構(gou)成(cheng):①. 合金(jin)成(cheng)分(fen)和(he)顯(xian)微結構(gou)上的(de)(de)(de)差異,如(ru)多相合金(jin)和(he)晶界的(de)(de)(de)析(xi)出物等(deng)(deng);②. 溶質原子可(ke)能(neng)析(xi)出的(de)(de)(de)高(gao)度無序晶界或(huo)亞(ya)晶界;③. 由于(yu)局(ju)部(bu)應(ying)力集中(zhong)及(ji)由此產生的(de)(de)(de)應(ying)變引(yin)(yin)起(qi)的(de)(de)(de)陽極晶界面;④. 由于(yu)應(ying)變引(yin)(yin)起(qi)表(biao)面膜的(de)(de)(de)局(ju)部(bu)破裂(lie);⑤. 由于(yu)塑(su)性(xing)變形引(yin)(yin)起(qi)的(de)(de)(de)陽極區(qu)等(deng)(deng)。在(zai)腐(fu)(fu)蝕環境(jing)中(zhong),當活性(xing)通(tong)道(dao)(dao)與周圍的(de)(de)(de)主體金(jin)屬(shu)建立起(qi)腐(fu)(fu)蝕電池時,電化學腐(fu)(fu)蝕就沿(yan)著這條路(lu)線進行(xing)。


 局(ju)部電(dian)化(hua)學溶解(jie)將(jiang)形成很窄(zhai)的(de)裂(lie)縫(feng)(feng),而外(wai)加應力使(shi)(shi)裂(lie)縫(feng)(feng)頂端(duan)(duan)應力集中產生(sheng)(sheng)局(ju)部塑性(xing)變形,然后引(yin)(yin)起表(biao)面(mian)(mian)膜(mo)撕(si)裂(lie)。裸露的(de)金屬成為新的(de)陽極,而裂(lie)縫(feng)(feng)兩(liang)側(ce)仍有(you)表(biao)面(mian)(mian)膜(mo)保護,與金屬外(wai)表(biao)面(mian)(mian)共(gong)同起陰極作用。電(dian)解(jie)液(ye)靠(kao)毛細管作用滲人到(dao)(dao)裂(lie)縫(feng)(feng)尖(jian)端(duan)(duan),使(shi)(shi)其在高電(dian)流密(mi)度下發生(sheng)(sheng)加速(su)的(de)陽極活性(xing)溶解(jie)。隨(sui)著反應進行,裂(lie)縫(feng)(feng)尖(jian)端(duan)(duan)的(de)電(dian)解(jie)質發生(sheng)(sheng)濃(nong)度變化(hua),產生(sheng)(sheng)極化(hua)作用和表(biao)面(mian)(mian)膜(mo)的(de)再(zai)生(sheng)(sheng),腐蝕速(su)率(lv)迅速(su)下降。重復緩慢的(de)活性(xing)通道(dao)腐蝕,直到(dao)(dao)裂(lie)縫(feng)(feng)尖(jian)端(duan)(duan)重新建立起足夠大的(de)應力集中,再(zai)次引(yin)(yin)起變形和裂(lie)縫(feng)(feng)產生(sheng)(sheng)。這(zhe)個過(guo)程不斷(duan)重復,直到(dao)(dao)裂(lie)縫(feng)(feng)深人到(dao)(dao)金屬內部,使(shi)(shi)金屬斷(duan)面(mian)(mian)減小到(dao)(dao)不足以承受載荷斷(duan)裂(lie)。


 活性通道(dao)假(jia)說(shuo)強調了(le)(le)應(ying)力(li)作用(yong)(yong)下表(biao)面膜(mo)的(de)(de)(de)(de)破(po)裂(lie)與電(dian)化(hua)學(xue)活性溶解的(de)(de)(de)(de)聯合作用(yong)(yong)。因(yin)此(ci),這個理(li)論提出了(le)(le)發(fa)(fa)生(sheng)(sheng)應(ying)力(li)腐(fu)(fu)蝕開裂(lie)必須具備(bei)的(de)(de)(de)(de)兩個基本(ben)條(tiao)件(jian):一是(shi)(shi)合金中預先要(yao)存在(zai)(zai)一條(tiao)對腐(fu)(fu)蝕敏感的(de)(de)(de)(de)、多少帶有(you)連續性的(de)(de)(de)(de)通道(dao),這條(tiao)通道(dao)在(zai)(zai)特(te)定的(de)(de)(de)(de)環(huan)境介質中對于(yu)(yu)周圍(wei)組織是(shi)(shi)腐(fu)(fu)蝕電(dian)池(chi)的(de)(de)(de)(de)陽(yang)極(ji);二是(shi)(shi)合金表(biao)面上要(yao)有(you)足夠大的(de)(de)(de)(de)基本(ben)上是(shi)(shi)垂直(zhi)于(yu)(yu)通道(dao)的(de)(de)(de)(de)張應(ying)力(li),在(zai)(zai)該(gai)張應(ying)力(li)作用(yong)(yong)下裂(lie)縫(feng)尖端出現應(ying)力(li)集中區,促使(shi)表(biao)面膜(mo)破(po)裂(lie)。在(zai)(zai)平面排列的(de)(de)(de)(de)位錯露頭處(chu),或新(xin)形成的(de)(de)(de)(de)滑(hua)移臺(tai)階處(chu),處(chu)于(yu)(yu)高(gao)應(ying)變(bian)狀態的(de)(de)(de)(de)金屬原子發(fa)(fa)生(sheng)(sheng)擇優腐(fu)(fu)蝕,沿位錯線向縱深發(fa)(fa)展,形成隧(sui)洞。在(zai)(zai)應(ying)力(li)作用(yong)(yong)下,隧(sui)洞間的(de)(de)(de)(de)金屬產生(sheng)(sheng)機械撕裂(lie)。當機械撕裂(lie)停止后,又重(zhong)新(xin)開始(shi)隧(sui)道(dao)腐(fu)(fu)蝕,此(ci)過程的(de)(de)(de)(de)反復發(fa)(fa)生(sheng)(sheng)導致裂(lie)紋(wen)的(de)(de)(de)(de)不斷擴(kuo)展,直(zhi)到金屬不能承(cheng)受載荷而發(fa)(fa)生(sheng)(sheng)過載斷裂(lie)。此(ci)模型雖然有(you)一定的(de)(de)(de)(de)實驗基礎,但屬于(yu)(yu)一種伴(ban)生(sheng)(sheng)現象,并(bing)非是(shi)(shi)應(ying)力(li)腐(fu)(fu)蝕的(de)(de)(de)(de)必要(yao)條(tiao)件(jian),不能成為應(ying)力(li)腐(fu)(fu)蝕的(de)(de)(de)(de)主要(yao)機理(li)。


五、應力吸附(fu)開裂理論


 上述幾種理(li)(li)論(lun)(lun)都包含電化學過程(cheng)(cheng),但是(shi)(shi)(shi)(shi)應力(li)腐(fu)蝕過程(cheng)(cheng)的(de)一些現象,如腐(fu)蝕介(jie)質(zhi)的(de)選擇(ze)性、破(po)裂(lie)臨界電位與(yu)腐(fu)蝕電位的(de)關系等,用(yong)電化學理(li)(li)論(lun)(lun)不(bu)能(neng)圓滿解釋。為此,尤利格提出(chu)應力(li)吸(xi)(xi)附破(po)裂(lie)理(li)(li)論(lun)(lun)。他認為,應力(li)腐(fu)蝕開裂(lie)一般并不(bu)是(shi)(shi)(shi)(shi)由(you)于(yu)(yu)金(jin)屬的(de)電化學溶解所引起(qi)的(de),而是(shi)(shi)(shi)(shi)由(you)于(yu)(yu)環境(jing)中(zhong)某些破(po)壞性組分對金(jin)屬內表面(mian)的(de)吸(xi)(xi)附,削(xue)弱了金(jin)屬原子間的(de)結合力(li),在拉應力(li)作用(yong)下引起(qi)破(po)裂(lie)。這是(shi)(shi)(shi)(shi)一種純(chun)機械性破(po)裂(lie)機理(li)(li)。此模型為純(chun)機械開裂(lie)模型,該模型得到的(de)最大支(zhi)持是(shi)(shi)(shi)(shi)許(xu)多(duo)純(chun)金(jin)屬和合金(jin)在液(ye)態金(jin)屬中(zhong)的(de)脆斷。吸(xi)(xi)附使金(jin)屬表面(mian)能(neng)降低,降低得越(yue)多(duo),應力(li)腐(fu)蝕敏感性越(yue)高,但有的(de)現象卻是(shi)(shi)(shi)(shi)相反的(de),缺乏廣泛的(de)實驗支(zhi)持,在水介(jie)質(zhi)的(de)應力(li)腐(fu)蝕理(li)(li)論(lun)(lun)中(zhong)所占(zhan)的(de)比例不(bu)大。


六、腐蝕產物楔入理(li)論(lun)


 腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)產(chan)(chan)(chan)物(wu)(wu)楔入理論是(shi)由(you)N.Nielsen首(shou)先提出的(de)(de),他認為,腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)產(chan)(chan)(chan)物(wu)(wu)沉(chen)積(ji)在裂(lie)(lie)紋(wen)尖端后(hou)面的(de)(de)陰(yin)(yin)極區。這(zhe)(zhe)種腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)產(chan)(chan)(chan)物(wu)(wu)有舌狀、扇(shan)狀等(deng)(deng)。在未(wei)加應力(li)(li)時,腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)產(chan)(chan)(chan)物(wu)(wu)雜亂(luan)分布;加應力(li)(li)后(hou),不(bu)僅使(shi)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)產(chan)(chan)(chan)物(wu)(wu)沿晶體缺陷,特別是(shi)沿位錯線(xian)排列,而(er)且舌狀、扇(shan)狀等(deng)(deng)也發展得更(geng)突出。腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)產(chan)(chan)(chan)物(wu)(wu)的(de)(de)沉(chen)積(ji)對裂(lie)(lie)紋(wen)起了(le)楔子(zi)(zi)(zi)作用,產(chan)(chan)(chan)生(sheng)(sheng)了(le)應力(li)(li)。當(dang)沉(chen)積(ji)物(wu)(wu)造成的(de)(de)應力(li)(li)達到臨界值(zhi)后(hou),裂(lie)(lie)紋(wen)向前擴展,新(xin)產(chan)(chan)(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)裂(lie)(lie)紋(wen)內吸(xi)人了(le)電解質溶液,使(shi)得裂(lie)(lie)紋(wen)尖端陽(yang)極溶解繼(ji)續(xu)進行,這(zhe)(zhe)就產(chan)(chan)(chan)生(sheng)(sheng)了(le)更(geng)多的(de)(de)可溶性金屬離子(zi)(zi)(zi),這(zhe)(zhe)些離子(zi)(zi)(zi)擴散至陰(yin)(yin)極區并生(sheng)(sheng)成氧化物(wu)(wu)和氫氧化物(wu)(wu)等(deng)(deng)沉(chen)積(ji)下來,因此而(er)產(chan)(chan)(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)應力(li)(li)又引起裂(lie)(lie)紋(wen)向前擴展,如(ru)此反(fan)復,直至開裂(lie)(lie)。


七(qi)、閉塞電池理論(lun)


 閉塞(sai)電池理論(Occluded Cell Corrosion)認為,由于金(jin)屬(shu)表面某些選擇性腐蝕的(de)結(jie)果,或(huo)者由于某些特殊的(de)幾何形狀(zhuang),使電解液中這些部位的(de)流動性受到限制,造成(cheng)這些部位的(de)液體化(hua)學(xue)成(cheng)分與整體化(hua)學(xue)成(cheng)分有很大差異,從而(er)降低(di)了(le)這些部位的(de)電位,加(jia)速(su)該(gai)區域的(de)局部腐蝕,形成(cheng)空洞(dong),這些空洞(dong)就(jiu)是所謂的(de)閉塞(sai)電池。閉塞(sai)電池內,陽(yang)極反(fan)應的(de)結(jie)果使酸度增加(jia),從而(er)加(jia)速(su)了(le)孔(kong)蝕的(de)速(su)率,在(zai)應力(li)的(de)作用下孔(kong)蝕可擴展為裂紋。


八、以(yi)機械開裂為主的兩段論


 以機械開裂(lie)(lie)為主的(de)兩段論認為:應力(li)腐蝕(shi)首先由于電(dian)化學的(de)腐蝕(shi)作用形成裂(lie)(lie)紋源,然后在(zai)應力(li)的(de)作用下迅速擴展(zhan)(zhan)而開裂(lie)(lie)。當裂(lie)(lie)紋擴展(zhan)(zhan)遇到析(xi)出物或不規則取(qu)向(xiang)晶粒時而停止,然后再(zai)進(jin)行電(dian)化學腐蝕(shi),這樣交替進(jin)行,直至開裂(lie)(lie)。


九、開裂(lie)三段論(lun)理論(lun)


 左景伊提出(chu)開裂(lie)(lie)三階段(duan)理論,其要(yao)點(dian)是解釋所謂的特性離子作用。這三個(ge)階段(duan)是:材(cai)料(liao)表面生(sheng)成鈍化膜(mo)或(huo)保護膜(mo),全面腐蝕速率比(bi)較低,使(shi)腐蝕只發生(sheng)在(zai)局(ju)部區域(yu);保護膜(mo)局(ju)部破(po)裂(lie)(lie),形成孔蝕或(huo)裂(lie)(lie)紋源;縫(feng)內環境發生(sheng)關鍵性的變(bian)化,裂(lie)(lie)縫(feng)向(xiang)縱(zong)深發展,而不是在(zai)表面徑(jing)向(xiang)擴散。