1. 補鍍硬鉻的適(shi)應性


a. 由于(yu)電網(wang)停電，鍍(du)鉻中途斷電，來(lai)電后需(xu)要繼續補鍍(du)鉻以達到(dao)規定厚(hou)度者。


b. 由于工作上的失誤，不(bu)銹鋼表面局部鍍上硬鉻而另一部分尚未鍍上鉻，需要在已鍍硬鉻表面和未鍍上硬鉻的不銹鋼表面上繼續鍍硬鉻至規定厚度者。


c. 鍍完硬鉻(ge)(ge)后(hou)鉻(ge)(ge)層厚度未(wei)(wei)達到規(gui)定尺(chi)寸，或在(zai)磨(mo)光(guang)硬鉻(ge)(ge)層后(hou)產品尺(chi)寸未(wei)(wei)達規(gui)定要求(qiu)者(zhe)。


 以上(shang)諸種情況，可以不采用退(tui)除鉻(ge)層重鍍(du)鉻(ge)，而可實施(shi)在表(biao)面(mian)上(shang)補鍍(du)硬鉻(ge)。



2. 工藝分析


  鉻(ge)上補(bu)鍍(du)鉻(ge)和不(bu)銹(xiu)鋼(gang)鍍(du)鉻(ge)的表面(mian)(mian)(mian)(mian)活(huo)化(hua)(hua)處(chu)理不(bu)盡相同，鉻(ge)上鍍(du)鉻(ge)是要(yao)將鍍(du)鉻(ge)表面(mian)(mian)(mian)(mian)作(zuo)為(wei)陽極(ji)進(jin)行腐蝕(shi)一定時間，以(yi)形成微觀粗(cu)糙的活(huo)化(hua)(hua)表面(mian)(mian)(mian)(mian)，再(zai)將鍍(du)件轉換成陰(yin)(yin)(yin)(yin)極(ji)，再(zai)階梯遞(di)升(sheng)電(dian)流(liu)到工藝規范的電(dian)流(liu)進(jin)行鍍(du)鉻(ge)。不(bu)銹(xiu)鋼(gang)表面(mian)(mian)(mian)(mian)電(dian)鍍(du)是將表面(mian)(mian)(mian)(mian)作(zuo)為(wei)陰(yin)(yin)(yin)(yin)極(ji)以(yi)小電(dian)流(liu)活(huo)化(hua)(hua)，利用陰(yin)(yin)(yin)(yin)極(ji)釋放的原子(zi)態氫還(huan)原不(bu)銹(xiu)鋼(gang)表面(mian)(mian)(mian)(mian)的鈍化(hua)(hua)膜（或稱氧化(hua)(hua)膜），達(da)到活(huo)化(hua)(hua)目的。在此(ci)情況下，為(wei)使漏鍍(du)的不(bu)銹(xiu)鋼(gang)活(huo)化(hua)(hua)，又要(yao)使鉻(ge)層(ceng)表面(mian)(mian)(mian)(mian)活(huo)化(hua)(hua)，應選(xuan)擇陰(yin)(yin)(yin)(yin)極(ji)活(huo)化(hua)(hua)為(wei)主，陽極(ji)腐蝕(shi)為(wei)輔的辦法，即(ji)鍍(du)件先作(zuo)為(wei)陽極(ji)腐蝕(shi)2min,再(zai)陰(yin)(yin)(yin)(yin)極(ji)活(huo)化(hua)(hua)時間相當于15min,隨后(hou)陰(yin)(yin)(yin)(yin)極(ji)電(dian)流(liu)逐步(bu)上升(sheng)，不(bu)銹(xiu)鋼(gang)表面(mian)(mian)(mian)(mian)和鉻(ge)層(ceng)表面(mian)(mian)(mian)(mian)逐步(bu)達(da)到鉻(ge)的析出(chu)電(dian)位(wei)，沉(chen)積了鉻(ge)層(ceng)。




3. 補鍍硬鉻(ge)工藝流程


 化(hua)學除油(you)（用去油(you)劑在室溫(wen)下(xia)擦洗(xi)(xi)(xi)）→水(shui)洗(xi)(xi)(xi)→酸洗(xi)(xi)(xi)［鹽酸10%(質量(liang)分數(shu)）清洗(xi)(xi)(xi)］→水(shui)洗(xi)(xi)(xi)→酸洗(xi)(xi)(xi)漏鍍處（4+1氫氟酸）→水(shui)洗(xi)(xi)(xi)→人槽→預熱(re)→陽(yang)極腐蝕(shi)（DA15~20A/d㎡,時間(jian)2min)→陰(yin)極活化(hua)（DK 5A/d㎡2,階梯遞(di)升(sheng)電(dian)流(liu)(liu)，每(mei)隔1~2min提(ti)升(sheng)一次電(dian)流(liu)(liu)，提(ti)升(sheng)幅度(du)1~4A/d㎡,約(yue)提(ti)升(sheng)8次，共(gong)10~15min升(sheng)至(zhi)正常(chang)電(dian)流(liu)(liu)）→正常(chang)鍍鉻（DK 15~40A/d㎡,時間(jian)鍍至(zhi)最小厚度(du)超(chao)過所需厚度(du)）→水(shui)洗(xi)(xi)(xi)→檢(jian)驗(yan)→除氫。


 經(jing)過上述(shu)工藝流程的補(bu)鍍鉻(ge)，原來漏(lou)鍍處(chu)經(jing)檢(jian)查也全部補(bu)鍍齊，無(wu)一處(chu)鉻(ge)層脫落。