1. 補鍍硬(ying)鉻的適應性


a. 由于電(dian)(dian)網停電(dian)(dian)，鍍(du)鉻中途斷(duan)電(dian)(dian)，來電(dian)(dian)后需要繼續補(bu)鍍(du)鉻以(yi)達到規定厚度者(zhe)。


b. 由于工作上的失誤，不銹鋼表面局部鍍上硬鉻而另一部分尚未鍍上鉻，需要在已鍍硬鉻表面和未鍍上硬鉻的不銹鋼表面上繼續鍍硬鉻至規定厚度者。


c. 鍍完(wan)硬(ying)鉻后鉻層(ceng)厚度(du)未達到規定尺(chi)寸(cun)，或在磨光硬(ying)鉻層(ceng)后產品(pin)尺(chi)寸(cun)未達規定要求者。


 以(yi)上諸種情(qing)況，可以(yi)不采用退除鉻(ge)層(ceng)重鍍鉻(ge)，而(er)可實(shi)施在表面上補鍍硬鉻(ge)。



2. 工藝(yi)分(fen)析


  鉻(ge)(ge)(ge)上補鍍(du)鉻(ge)(ge)(ge)和不(bu)銹(xiu)鋼(gang)鍍(du)鉻(ge)(ge)(ge)的(de)(de)(de)表(biao)面(mian)活(huo)(huo)化(hua)(hua)(hua)處理不(bu)盡(jin)相同(tong)，鉻(ge)(ge)(ge)上鍍(du)鉻(ge)(ge)(ge)是要將(jiang)鍍(du)鉻(ge)(ge)(ge)表(biao)面(mian)作為(wei)陽極(ji)(ji)進行(xing)腐(fu)蝕一(yi)定時間，以形成微觀粗糙的(de)(de)(de)活(huo)(huo)化(hua)(hua)(hua)表(biao)面(mian)，再將(jiang)鍍(du)件轉換成陰極(ji)(ji)，再階梯遞升電流到工(gong)藝規范(fan)的(de)(de)(de)電流進行(xing)鍍(du)鉻(ge)(ge)(ge)。不(bu)銹(xiu)鋼(gang)表(biao)面(mian)電鍍(du)是將(jiang)表(biao)面(mian)作為(wei)陰極(ji)(ji)以小電流活(huo)(huo)化(hua)(hua)(hua)，利用陰極(ji)(ji)釋放的(de)(de)(de)原子態氫還原不(bu)銹(xiu)鋼(gang)表(biao)面(mian)的(de)(de)(de)鈍化(hua)(hua)(hua)膜(mo)（或(huo)稱氧化(hua)(hua)(hua)膜(mo)），達(da)(da)到活(huo)(huo)化(hua)(hua)(hua)目的(de)(de)(de)。在此(ci)情況下，為(wei)使(shi)漏鍍(du)的(de)(de)(de)不(bu)銹(xiu)鋼(gang)活(huo)(huo)化(hua)(hua)(hua)，又要使(shi)鉻(ge)(ge)(ge)層表(biao)面(mian)活(huo)(huo)化(hua)(hua)(hua)，應(ying)選擇(ze)陰極(ji)(ji)活(huo)(huo)化(hua)(hua)(hua)為(wei)主(zhu)，陽極(ji)(ji)腐(fu)蝕為(wei)輔的(de)(de)(de)辦(ban)法，即鍍(du)件先作為(wei)陽極(ji)(ji)腐(fu)蝕2min,再陰極(ji)(ji)活(huo)(huo)化(hua)(hua)(hua)時間相當于(yu)15min,隨后陰極(ji)(ji)電流逐步上升，不(bu)銹(xiu)鋼(gang)表(biao)面(mian)和鉻(ge)(ge)(ge)層表(biao)面(mian)逐步達(da)(da)到鉻(ge)(ge)(ge)的(de)(de)(de)析出電位(wei)，沉(chen)積了鉻(ge)(ge)(ge)層。




3. 補鍍硬鉻工(gong)藝流程


 化學除(chu)油(you)(you)（用去油(you)(you)劑(ji)在室溫下擦洗）→水洗→酸(suan)(suan)洗［鹽酸(suan)(suan)10%(質量分數）清(qing)洗］→水洗→酸(suan)(suan)洗漏(lou)鍍(du)處（4+1氫氟酸(suan)(suan)）→水洗→人槽→預熱→陽極(ji)腐蝕（DA15~20A/d㎡,時(shi)間2min)→陰極(ji)活(huo)化（DK 5A/d㎡2,階梯遞升(sheng)(sheng)電流，每隔1~2min提(ti)升(sheng)(sheng)一次(ci)電流，提(ti)升(sheng)(sheng)幅度1~4A/d㎡,約提(ti)升(sheng)(sheng)8次(ci)，共10~15min升(sheng)(sheng)至(zhi)正常(chang)電流）→正常(chang)鍍(du)鉻（DK 15~40A/d㎡,時(shi)間鍍(du)至(zhi)最小厚度超(chao)過(guo)所需厚度）→水洗→檢(jian)驗→除(chu)氫。


 經(jing)過上述工藝流(liu)程的補鍍鉻(ge)，原來(lai)漏(lou)鍍處經(jing)檢查也全(quan)部補鍍齊，無一處鉻(ge)層脫落。