不銹鋼表面浮雕精飾是活化腐蝕與多層電鍍的綜合加工，表面浮雕精飾后的金屬制品圖案清晰，光彩絢麗奪目，層次手感柔和。立體感強。富有金屬鞋刻效果。首先在制筆行業得到大批量應用，收到巨大的經濟效益。
消光(guang)鍍鉻底色鍍金或(huo)消光(guang)鍍鉻底色銀光(guang)浮雕工藝流程如下：
1. 機械(xie)磨光、拋光
可按不銹鋼拋光(guang)工藝進行。
①. 拋光表面要求(qiu)：無麻點、硬絲路、沖拉模具痕及飛邊。
②. 金剛(gang)砂：磨光按表面光潔(jie)度需要選用300=、400#、500#金剛(gang)砂。
③. 拋(pao)(pao)(pao)光(guang)膏(gao)：磨光(guang)用黃拋(pao)(pao)(pao)光(guang)膏(gao)，拋(pao)(pao)(pao)光(guang)用綠拋(pao)(pao)(pao)光(guang)膏(gao)，拉白光(guang)亮用白拋(pao)(pao)(pao)光(guang)膏(gao)+維也納石灰。
④. 拋磨溫度：不宜(yi)過高，以免使不銹鋼金相結構改(gai)變。
2. 拉毛消光(guang)
可用(yong)砂輪(lun)、皮帶車、噴砂、鋼絲拋(pao)盤及專用(yong)拉絲機進行拉毛(mao)。按不(bu)同要求(qiu)進行消光處理。
3. 化學除油
磷酸三鈉（Na3 PO4·12H2O) 20~30g/L 、海鷗洗滌劑 2~3mL/L
碳酸鈉（Na2CO3) 10~15g/L 、溫度 90~100℃ 、時間 10~30min
4. 水清(qing)洗，并上掛具(ju)
5. 電化學除油
氫(qing)氧化鈉(na)（NaOH) 10~15g/L 、 平平加(jia)（勻染(ran)劑）0.5~1.0g/L 、溫度 80~90℃ 、時間 1~5min
磷酸三鈉（Na3PO4·12H2O) 20~25g/L 、陰極電流密度（DK) 1~3A/d㎡ 、碳酸鈉（Na2CO3) 10~15g/L
6. 水(shui)清(qing)洗(xi)
7. 電(dian)解(jie)活(huo)化腐蝕
硫酸（H2SO4) 10~20g/L 、時間 10~30s 、溫度 15~40℃ 、陰極材料 不銹鋼 、陽極電流密度 1~1.5A/d㎡
8. 水清洗
9. 鍍鉻
鉻酐（CrO3) 250~280g/L 、陰極電流密度 25~35A/d㎡ 、硫酸（H2SO4) 2.8~3.0g/L 、時間 1~3min 、溫度 45~50℃
10. 回收、清洗
11. 卸掛具，并(bing)上烘(hong)架(jia)烘(hong)干
烘架要求易(yi)插易(yi)取，互(hu)不(bu)接觸，并經(jing)防銹處(chu)理。（烘干(gan)溫度 90~100℃ 、烘干(gan)時間(jian) 10~15min）
12. 絲網漏印
①. 印刷(shua)油墨。
自(zi)干(gan)(gan)型(xing)耐腐蝕絲網(wang)印料。由無錫(xi)化工研(yan)究設計(ji)院(yuan)研(yan)制(zhi)生(sheng)產，具備易干(gan)(gan)、耐酸蝕、成(cheng)膜清晰(xi)均勻、脫除(chu)方便的特性。
②. 稀釋劑(ji)
由該(gai)院配套供(gong)應，用以調(diao)節印料稠度，清理絲網(wang)印版(ban)及工具。
③. 絲(si)印設備
平面零件(jian)可(ke)類同普通(tong)油印機(ji)，圓柱形(xing)筆桿(gan)應選用萬能絲印機(ji)，工作原理如圖10-13所示。
13. 上架烘干
烘干溫度(du) 70~90℃ 、烘干時間 30~40min
14. 涂(tu)敷封口，修補絲印
15. 上(shang)烘架烘干
16. 上掛具
17. 電解活(huo)化腐(fu)蝕，退(tui)除未覆蓋絲印油墨(mo)部分(fen)的鉻層，并(bing)活(huo)化基體(ti)表面。
鹽酸（d=1.17) 30% 、陽(yang)極電流密度 0.5~2A/d㎡ 、十二烷基硫酸鈉(na) 0.1~0.3g/L 、時間 1~2min 、溫(wen)度 室(shi)溫(wen)
18. 水清(qing)洗
19. 閃(shan)鍍(du)高氯鎳(nie)
氯化鎳（NiCl2·6H2O) 140~180g/L 、鹽酸（HCl)(d=1.17) 100~120g/L 、陰極移動 16~18次／min
時(shi)間 30~90s 、溫(wen)度 室溫(wen) 、陽極材料 軋制鎳板，套袋 、陰極電流(liu)密度 3~5A/d㎡
20. 流動水清洗(xi)兩次(ci)以上，防止(zhi)氯(lv)離子大量進入(ru)亮銅槽，認(ren)真徹(che)底清洗(xi)。
21. 鍍酸性光亮銅
為(wei)了快速加厚浮雕(diao)圖(tu)(tu)案，采用高(gao)濃度、大(da)電流(liu)快速沉(chen)積銅(tong)，加速陰(yin)極移(yi)動。由于圖(tu)(tu)紋線(xian)條粗細(xi)(xi)疏(shu)(shu)密不一，電鍍時的電流(liu)密度分布不勻，以粗密圖(tu)(tu)案近陽板，細(xi)(xi)疏(shu)(shu)及無圖(tu)(tu)案處(chu)遠離陽極，以防(fang)細(xi)(xi)疏(shu)(shu)圖(tu)(tu)案DK過大(da)燒毛。
高酸性銅液成分及工作(zuo)條件(jian)：
硫酸銅（CuSO4·5H2O) 200~240g/L 、硫酸（H2SO4) 55~75g/L 、氯離子（Cl-) 50~80mg/L 、溫度 15~38℃
光亮(liang)劑(ji)209A 0.5mL/L 、光亮(liang)劑(ji)209B 0.5mL/L 、光亮(liang)劑(ji)209C 8mL/L 、陰極電流(liu)密度 1.5~8A/d㎡(按(an)實(shi)際(ji)受鍍(du)面積計算）
陰(yin)極(ji)移動 25~30次／min 、時(shi)間(jian) 銅層厚度達到明(ming)顯的浮雕效果即可（10~30min)
22. 水清洗
23. 鍍光亮鎳
在普通亮鎳槽中進(jin)行(xing)，作為中間層(ceng)，能使圖案更(geng)絢麗光彩，并提(ti)高(gao)防(fang)護性和抗變色性。鍍(du)亮鎳配方及工作條件：
硫酸鎳（NiSO4·7H2O) 280~320g/L 、pH 4~4.8 、氯化鎳（NiCl2·6H2O) 50~60g/L 、溫度 57~62℃
硼酸（H3BO3) 40~45g/L 、陰極電流密度（DK) 2~8A/d㎡(按實際受鍍面積計算） 、 5#A 0.6~0.8mL/L
光亮劑(ji)5#B 5~6mL/L 、時間 2~3min 、潤濕(shi)劑(ji)LB 1~2mL/L 、陰(yin)極移動(dong) 18~22次／min
24. 水清洗
25. 先消光鍍(du)(du)鉻底色鍍(du)(du)金
采用鍍金－鈷－銦(yin)合金，鍍層光亮(liang)，耐磨性高，延長浮雕精飾層的使(shi)用壽命。
鍍金合(he)金溶液(ye)成(cheng)分(fen)及工(gong)作條件(jian)：
氰化金鉀［KAu(CN)2] 5~8g/L 、檸檬酸鉀（K3C6H5O7) 50~90g/L 、檸檬酸（H3C6H5O7) 40~50g/L 、硫酸鈷（CoSO4·7H2O) 12~15g/L
硫酸銦（InSO4) 1~1.5g/L 、pH 3.5~4.2 、溫度 35~38℃ 、時間 30~90s 、陰極電流密度（DK) 0.5~1.0A/d㎡
陽極(ji)(ji) 99.99%純(chun)金(jin) （陽極(ji)(ji)也可用不溶性(xing)不銹鋼，但要按需補充金(jin)鹽） 、陰極(ji)(ji)移(yi)動(dong) 需要，可采用旋(xuan)轉陰極(ji)(ji)，使金(jin)層更(geng)加均(jun)勻(yun)
銀光(guang)亮浮雕(diao)工(gong)藝(yi)。鍍(du)普通(tong)裝飾(shi)鉻，溶液成分及工(gong)作條件：
鉻酐（CrO3) 250~280g/L 、陰極電流密度 20~28A/d㎡ 、硫酸（H2SO4) 2.5~2.8g/L 、時間 0.5~1.5min 、溫度 45~50℃
26. 回收金或鉻酸，再用水(shui)清洗
27. 脫除印料(liao)
弱堿(jian)溶液成分及(ji)工作條件：
磷酸三鈉（Na3PO4·12H2O) 10~30g/L 、碳酸鈉（Na2CO3) 5~10g/L 、溫度 40~50℃ 、時間 以自來水能沖盡印料為止
28. 水(shui)清洗，去離子水(shui)浸洗
29. 上烘(hong)架
30. 烘干
溫(wen)度 60~80℃ 、 時(shi)間 10~20min
