有許多理論對應力腐(fu)蝕現象進行解釋，現選其中比較常用的三種簡述如下：

1. 活化(hua)通路型應力腐(fu)蝕(shi) 

    從電化學腐蝕理論中知道，當腐蝕電池是一個大陰極和一個小陽極時，陽極的溶解表現為集中性腐蝕損傷。只要在腐蝕過程中，陽極始終保持處于裂紋的最前沿，裂尖處于活化狀態下而不鈍化，與此同時其他部位（包括裂紋斷口兩側）發生鈍化，則裂紋可以一直向前發展直至斷裂如圖3-6所示。從圖中可以看出，裂紋猶如一個閉塞電池，裂紋內尖端是一個陽極區。裂口內部聚集了一些沉淀物如Fe₃O₄·Fe（OH）₃，將裂紋通道堵塞，而此時H^＋可透過閉塞物質緩慢地向外擴散，內部消耗的H₂O則通過滲透來補充。這樣又將其他活性離子（如Cl）帶入內部，促使內部腐蝕性增強，在應力作用下促使裂紋尖端區域鈍化膜破壞，將陽極進一步活化且更加集中，裂紋就進一步深入發展，直至斷裂。閉塞電池的實質是裂紋內部的電化學發展過程。若裂隙中沉淀物的體積大于破壞金屬的體積很多時，則出現脹裂力，使裂紋尖端應力增大，促使應力腐蝕裂紋的發展。這一理論著重說明了電化學過程的重要性。

2. 應變產生活性通(tong)道應力腐(fu)蝕 

   應(ying)(ying)變產生活性通道應(ying)(ying)力(li)腐蝕(shi)是指鈍(dun)化(hua)(hua)(hua)膜在(zai)應(ying)(ying)力(li)作用下同金(jin)屬基體一起變形時(shi)(shi)發(fa)(fa)生破裂(lie)，裂(lie)隙(xi)處暴露出的(de)(de)(de)(de)金(jin)屬成為活化(hua)(hua)(hua)陽極，發(fa)(fa)生溶解。在(zai)腐蝕(shi)過程中，鈍(dun)化(hua)(hua)(hua)膜破壞(huai)的(de)(de)(de)(de)同時(shi)(shi)又(you)會(hui)使破裂(lie)的(de)(de)(de)(de)鈍(dun)化(hua)(hua)(hua)膜修(xiu)復，在(zai)連(lian)續發(fa)(fa)生應(ying)(ying)變的(de)(de)(de)(de)條件下修(xiu)復的(de)(de)(de)(de)鈍(dun)化(hua)(hua)(hua)膜又(you)遭破壞(huai)。此過程周(zhou)而復始不斷發(fa)(fa)生，當應(ying)(ying)力(li)超過修(xiu)復后鈍(dun)化(hua)(hua)(hua)膜的(de)(de)(de)(de)強度，應(ying)(ying)力(li)腐蝕(shi)即(ji)可發(fa)(fa)生，直至脆斷，如圖3-7所示。該理論著重(zhong)說(shuo)明了應(ying)(ying)力(li)的(de)(de)(de)(de)重(zhong)要(yao)作用。

3. 氫脆(cui)型應(ying)力腐(fu)蝕

  腐(fu)蝕(shi)電池是由小陰極和(he)大(da)陽極組成，這時大(da)陽極發(fa)生(sheng)溶解表現為均勻性(xing)(xing)腐(fu)蝕(shi)。小陰極區(qu)的(de)陰極過程中，如果(guo)發(fa)生(sheng)析氫(qing)的(de)話，將發(fa)生(sheng)陰極區(qu)金屬(shu)的(de)集中性(xing)(xing)滲氫(qing)，在持續載荷作(zuo)用下氫(qing)促進塑性(xing)(xing)應(ying)變而導(dao)(dao)致脆斷，應(ying)力腐(fu)蝕(shi)就會順利發(fa)展。隨著裂(lie)紋(wen)的(de)發(fa)展，裂(lie)紋(wen)尖(jian)端應(ying)力（裂(lie)尖(jian)應(ying)力）、應(ying)變集中促進金屬(shu)中氫(qing)往裂(lie)紋(wen)尖(jian)端中聚集（叫做(zuo)應(ying)力誘導(dao)(dao)擴散），最終導(dao)(dao)致應(ying)力腐(fu)蝕(shi)斷裂(lie)。氫(qing)脆裂(lie)紋(wen)擴散機理的(de)示意圖如圖3-8所示。